Als Alumina Substrat fir LCD Panel (PFD, PDF, TFT ...) Fabrikatiounsausrüstung.
Fir Grouss LCD Industrie Glas Substrat Transfermaart Manipulator.
Fir Lithographie Ausrüstung.
Héich Rengheet a chemesch Haltbarkeet
Héich mechanesch Kraaft an Hardness
Héich Korrosiounsbeständegkeet
Héich Volt Resistenz
Héich Temperatur bis 1700ºC
Extrem Abrasion Resistenz Leeschtung
Excellent Isolatioun Leeschtung
Grouss Gréisst
Produit Numm | Chemshun grouss Gréisst héich Rengheet Alumina Keramik Substrat Keramik Panel |
Material | 99,7% Alumina |
Normal Gréisst | 1200x500x20, 1400x900x30, personaliséiert Gréisst akzeptéiert. |
Faarf | Elfebeen |
Applikatioun | LCD Panel (PFD,PDF,TFT…) Fabrikatiounsausrüstung. |
Min.Bestellung | 1 Bild |
Eenheet | 99,7 Alumina Keramik | ||
Allgemeng Eegeschafte | Al2O3 Inhalt | Gewiicht% | 99,7-99,9 |
Dicht | gm/cc | 3,94-3,97 | |
Faarf | - | Elfebeen | |
Waasser Absorptioun | % | 0 | |
Mechanesch Eegeschafte | Flexural Strength (MOR) 20 ºC | Mpa (psix10^3) | 440-550 |
Elastesche Modul 20ºC | GPa (psix10^6) | 375 | |
Vickers Hardness | Gpa(kg/mm2) R45N | >=17 | |
Béie Kraaft | Gpa | 390 | |
Spannkraaft 25ºC | MPa (psix10^3) | 248 | |
Fracture Toughness (KI c) | Mpa* m^1/2 | 4-5 | |
Thermesch Properties | Wärmekonduktivitéit (20ºC) | W/mk | 30 |
Thermesch Expansiounskoeffizient (25-1000ºC) | 1 x 10^-6/ºC | 7.6 | |
thermesch Schock Resistenz | ºC | 200 | |
Maximal Gebrauch Temperatur | ºC | 1700 | |
Elektresch Eegeschaften | Dielektresch Kraaft (1MHz) | ac-kv/mm(ac v/mil) | 8.7 |
Dielektric Konstant (1 MHz) | 25ºC | 9.7 | |
Volume Resistivitéit | ohm-cm (25ºC) | >10^14 | |
ohm-cm (500ºC) | 2×10^12 | ||
ohm-cm (1000ºC) | 2x10^7 |
Mir akzeptéieren personaliséiert Bestellungen.
Wann Dir méi Produktinformatioun wësse wëllt, fillt Iech gratis, kontaktéiert eis a mir leeschten Iech dat gëeegentste Produkt a beschte Service!