Mat der rapider Entwécklung vun der Hallefleederindustrie ass d'Gréisst vun der Industrie rapid zougeholl, an d'Ausrüstung fir d'Hallefleederproduktioun huet sech weiderhin op Präzisioun a Komplexitéit weiderentwéckelt. Well Keramik d'Virdeeler vun héijer Häert, héijem Elastizitéitsmodul, héijer Verschleißbeständegkeet, héijer Isolatioun, Korrosiounsbeständegkeet, gerénger Expansioun usw. huet, kann et als Deeler vu Siliziumpoléiermaschinnen, Epitakzial-/Oxidatiouns-/Diffusiounshëtzbehandlungsausrüstung, Lithographiemaschinnen, Oflagerungsausrüstung, Hallefleederätzungsausrüstung, Ionenimplantatiounsmaschinn an aner Ausrüstung benotzt ginn, sou datt d'Fuerschung an d'Entwécklung a Produktioun vu Präzisiounskeramikdeeler direkt d'Entwécklung vun der Hallefleederindustrie beaflossen. Déi technesch Ufuerderunge fir seng Virbereedung ginn ëmmer méi héich.
Aluminiumoxid mat héijer Reinheet, 99,7% -99,9% Aluminiumoxid.
Héich mechanesch Stäerkt, héich Verschleißbeständegkeet, héich elektresch Isolatioun, héich chemesch Stabilitéit, gutt Hëtztbeständegkeet a Korrosiounsbeständegkeet. Am Moment ass d'Benotzung vu Keramikschleifscheiwen fir Halbleiter-Siliziumwafer ze schleifen déi iewescht a modernst Schleifmethod. De duebelsäitege Schleifprozess gëtt benotzt fir de geschnidde Siliziumwafer ze schleifen, an d'Qualitéit vum Schleifwafer gëtt verbessert duerch d'Verbesserung vum Schleifprozess (Scheifmaterial, Schleifflëssegkeet, Schleifdrock a Schleifgeschwindegkeet, etc.). Besonnesch d'Benotzung vu Keramikplacken amplaz vu Gossplacken, fir Schleifen op der Haaptuewerfläch vum Wafer duerch Narben oder Verschmotzung ze vermeiden, d'Aféierung vu Metallionen ze reduzéieren, déi spéider Veraarbechtung vu Silizium ze reduzéieren, d'Korrosiounszäit (Korrosioun) ze verkierzen, d'Produktiounseffizienz ze verbesseren an de Verloscht vun der Siliziumveraarbechtung ze reduzéieren, wat d'Auslastung vu Silizium däitlech verbessert.
Héich Aluminiumoxid-Wafer-Poléierplackgëtt an der Hallefleiter-, Pëtrols-, Chimie-, Photovoltaik-, Flëssegkristall- an aneren Industrien agesat, wéi zum Beispill mechanesch Deeler, elektronesch Deeler, Mikrowellen-Induktiounsscheiwen, Isolatiounsmaterialien an aner Deeler, Hallefleiterapparater, Vakuumausrüstung, Ausrüstung fir d'Produktioun vu Flëssegkristaller an aner Deeler. Grouss an héichreine Aluminiumoxidkeramik huet e wichtegen Uwendungswäert an der Saphirindustrie an der Hallefleiterchipindustrie. Et ass eng wichteg Ënnerstëtzung a Verbrauchsstoff fir d'chemesch-mechanesch Polieren (CMP) vu Saphir- a Hallefleitersiliziumwaferen. Grouss an héichreine Aluminiumoxidkeramik kann och als Aluminiumoxidsubstrat fir LCD benotzt ginn.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 27. Juni 2024